레이저 클리닝의 선택적 어블레이션: 암석 표면 손상 없는 오염층 증발의 광학적 원리
오염층과 석재 기질 간의 레이저 에너지 흡수율(Absorption) 차이 분석
오염층과 석재 기질 간의 레이저 에너지 흡수율(Absorption) 차이 분석: 검은 매연 등 오염물은 레이저를 잘 흡수해 타버리지만, 밝은 석재는 반사하여 손상되지 않는 선택적 세척 원리입니다.
특정 파장(예: 1064nm)에서의 광열적(Photothermal) 증발 메커니즘
특정 파장(예: 1064nm)에서의 광열적(Photothermal) 증발 메커니즘: 레이저 에너지가 순간적으로 열로 변해 오염물을 기화시키는 과정을 분석합니다.
레이저 펄스 폭(Pulse Width)에 따른 열 영향부(HAZ) 최소화 전략
레이저 펄스 폭(Pulse Width)에 따른 열 영향부(HAZ) 최소화 전략: 펄스 지속 시간을 극도로 짧게(나노~피코초) 하여 열이 석재 내부로 전달되기 전에 오염물만 제거합니다.
급격한 열팽창에 의한 오염 입자의 광기계적(Photomechanical) 탈락
급격한 열팽창에 의한 오염 입자의 광기계적(Photomechanical) 탈락: 열에 의한 순간적 팽창 압력으로 오염 입자를 표면에서 튕겨내는 효과입니다.
에너지 밀도(Fluence) 임계값 설정을 통한 기질 손상 방지 제어
에너지 밀도(Fluence) 임계값 설정을 통한 기질 손상 방지 제어: 오염물은 제거되되 석재는 타지 않는 최적의 에너지 구간(Cleaning Window)을 설정합니다.
레이저 조사 시 발생하는 플라즈마 실드의 차폐 효과 분석
레이저 조사 시 발생하는 플라즈마 실드의 차폐 효과 분석: 공기가 이온화되어 발생하는 플라즈마가 레이저를 가려 세척 효율을 떨어뜨리는 현상을 제어합니다.
다파장 레이저 시스템을 이용한 복합 오염물(매연, 생물) 동시 제거
다파장 레이저 시스템을 이용한 복합 오염물(매연, 생물) 동시 제거: 서로 다른 흡수 특성을 가진 오염물들을 여러 파장의 레이저를 조합해 한 번에 제거합니다.
석재 내부 수분이 레이저 클리닝 시 미치는 '마이크로 팝핑' 현상
석재 내부 수분이 레이저 클리닝 시 미치는 '마이크로 팝핑' 현상: 공극 속 물이 레이저에 급격히 끓어오르며 오염물을 밀어내는 긍정적 효과 또는 석재 파손의 위험성을 분석합니다.
클리닝 전후 표면 색도(Colorimetry) 측정을 통한 정량적 청정도 평가
클리닝 전후 표면 색도(Colorimetry) 측정을 통한 정량적 청정도 평가: L a b 좌표계를 사용하여 세척 후 석재가 원형의 색상을 얼마나 회복했는지 수치화합니다.
레이저 클리닝 시 발생하는 에어로졸의 성분 분석 및 안전 수칙
레이저 클리닝 시 발생하는 에어로졸의 성분 분석 및 안전 수칙: 기화된 유해 오염물 입자가 작업자에게 흡입되지 않도록 집진 및 보호 대책을 수립합니다.